Internationales Symposium in Tokio und Osaka

Am 3. und 10. Juni 2019 veranstalteten die Kanzleien Maiwald und Oblon erneut ein gemeinsames Symposium zur Patentpraxis in den USA und Europa, an dem mehr als 120 Teilnehmer in Tokio und Osaka teilnahmen.

Auf dem Symposium 2019 wurden eine Reihe aktueller Themen der IP-Praxis in Bezug auf Anmeldeverfahren, Übertragung von Rechten und der Durchsetzung von Patenten aus den aus den Jurisdiktionen in Europa und den USA gemeinsam mit den Teilnehmern diskutiert. Dabei wurden insbesondere sowohl die Gemeinsamkeiten dieser Themen als auch wichtige Unterschiede zwischen den verschiedenen Jurisdiktionen behandelt, um die Anmelder und Patentinhaber auf mögliche Probleme und Lösungen hinzuweisen. Das Symposium behandelte insbesondere folgende Themen:

1. Alexander Ortlieb (Maiwald) und Sameer Gokhale sowie James Love (beide Oblon) sprachen über praktische Empfehlungen zur Anmeldung von Patenten im Zusammenhang mit Künstlicher Intelligenz (KI) in Europa und in den USA und verwiesen dabei auf die aktuellen Entwicklungen des Europäischen Patentamts (EPA) sowie des USPTOs;
2. Dr. Derk Vos (Maiwald) und Yuki Onoe(Oblon) stellten aktuelle Entwicklungen in der Rechtsprechung zur äquivalenten Patentverletzungen in Deutschland, Europa und den USA vor; und
3. Dr. Norbert Hansen (Maiwald) und Dr. David Longo sowie Andrew Ollis (beide Oblon) sprachen über den die Anforderungen der jeweiligen Patentsysteme zur Übertragung von Prioritätsrechten und Anmeldungen in Europa und in den USA, um die Teilnehmer für die durchaus unterschiedlichen Anforderungen der beiden Systeme zu sensibilisieren, um Rechtsverluste zu vermeiden.

Im Anschluss an das Symposium konnten die Diskussionen zwischen den Teilnehmern und den Gastgebern bei einem Empfang in entspannter Atmosphäre fortgesetzt werden.

Wir möchten uns bei allen Teilnehmern und unseren Freunden und Kollegen von Oblon ganz herzlich für die Teilnahme und die Diskussionen bedanken, die unser Symposium wieder zu einem großen Erfolg haben werden lassen.

Weitere Informationen sowie das vollständige Programm finden Sie hier.