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16 Nov 2023
Am 16. November 2023 fand das „Joint Symposium on U.S. and European Patent Practice – Important Aspects for Practitioners“ gemeinsam mit Oblon in München statt. Im Rahmen der Veranstaltung wurden die Teilnehmer über die jüngsten Entwicklungen und aktuellen Aspekte der IP-Praxis in den USA und Europa informiert. Wie Sie wissen, haben sowohl das amerikanische als auch das europäische Patentsystem ihre Vor- und Nachteile, die sich nicht immer nahtlos aneinander anschließen. Sowohl amerikanische als auch europäische Anmelder müssen die Unterschiede und Besonderheiten zwischen dem amerikanischen und dem europäischen Patentsystem kennen kennen, um mit beiden Systemen die besten Ergebnisse zu erzielen.
Auf diesem gemeinsamen Symposium wurden gemeinsam ausgewählte aktuelle Aspekte der IP-Praxis untersucht, die mit der Anmeldung und Durchsetzung von Patenten in den USA und in Europa zusammenhängen. Während Ähnlichkeiten bestehen, müssen Anmelder von US-amerikanischen und europäischen Patenten die Besonderheiten und die jüngsten Entwicklungen in jedem System kennen, um die besten Ergebnisse zu erzielen. Das Symposium hat sich insbesondere mit den folgenden wichtigen Themen für die heutigen Praktiker befasst:
Zu den Referenten gehörten: David Longo (Oblon), Tobias Philipp (Maiwald), Andrew Ollis (Oblon), Derk Vos (Maiwald), Daniel Pereira (Oblon), Annelie Wünsche (Maiwald), James Love (Oblon) und Martina Boidol (Maiwald). Im Anschluss an das Symposium wurden bei einem zwanglosen Empfang Getränke und Hors d’oeuvres gereicht.